卷对卷工序中铝箔的处理
由于它们很小的厚度,在等离子体应用中薄膜是特别关键的。因为它们的的高传导性,尽管金属和温度通常没有问题,由于它们没有导热层,薄膜必须非常小心地被处理。 一定质量的金属能缓慢地以30 mm / s的速度被处理,而箔片必须以500 mm / s或更高的速度处理。
卷对卷是这样一个工序的实例,每个薄膜必须以非常高的速度被处理,只能瞬间地离开使等离子体粒子与表面相互作用。 在这些条件下实现高质量的活化是一个真正的挑战。 可是,合适的设备布置仍然允许成功的实施。 从上方的图片可以看出,在这个实例中三个等离子体发生器被串联设置,以覆盖薄箔的胶粘表面的全部的宽度。
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